上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数

型号	KDC 40
阳极	DC 直流
阳极功率	100W
最大离子束流	>100mA
电压	100-1200V
气体	惰性和反应气体
进气流量	2-10sccm
压力	<0.5m Torr
离子光学(自对准)	OptiBeamTM
离子束直径	4cm Φ max
栅极	钼和石墨
离子束形状	聚焦, 平行, 散射
高度	16cm
直径	9cm

KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

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